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碲化锗靶材 GeTe 碲化物陶瓷靶材 旋转溅射靶 真空镀膜 PVD镀膜

产品标签  | 碲化锗靶材 GeTe 碲化物陶瓷靶材 碲化锗粉末

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碲化锗靶材 GeTe 碲化物陶瓷靶材 旋转溅射靶 真空镀膜 PVD镀膜

碲化物靶材，自己合成粉末，半导体行业专用粉

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    产品特性：半导体材料品名：碲化锗牌号：高纯
    产地：河北锗含量≥：99.***%杂质含量：0.01%
    重量：0.1kg/块尺寸：25.4mm/ 50.8mm/ 60mm/76.2mm/101.6mm

    碲化锗靶材 GeTe 碲化物陶瓷靶材 旋转溅射靶 真空镀膜 PVD镀膜详细介绍


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